AWSC 宏捷科技

				專利一覽表
				
					
						No.
						專利名稱
						申請案號
						專利權證號
						取得日期
					
    1砷化鎵異質接面雙極性電晶體之單晶片高密度佈局91100413發明第二四四七六二號2001/05/28
    2異質接面雙極性電晶體之量產製程90114484發明第一六七四六八號2002/10/21
    3金屬剝除之量產製程91101848發明第一七○九○六號2003/01/01
    4晶片電鍍治具改良91209485發明第二○二○六三號2003/03/01
    5金屬擴散之量產製程90130974發明第一七五五八七號2003/03/11
    6用於蝕刻晶圓上的金之裝置91218515發明第二○七九四八號2003/07/11
    7用於薄晶圓之去除殘蠟新製程及裝置(Demount後殘蠟去除/減低之新製程)91118838發明第一八四九○六號2003/08/01
    8低濃度矽甲烷形成氮化矽之量產製程91101849發明第一八八七一四號2003/09/21
    9去除晶圓邊緣多餘光阻之曝光方法92100554發明第一九三九四四號2003/11/21
    10異質接面雙極性電晶體製程改善的方法91113808發明第二二四三六四號2004/11/21
    11砷化鎵異質接面雙極性電晶體之形成方法及其單晶片高密度佈局88116656發明第一三七五二八號2005/12/01
    12氮化鉭電阻之量產製程91101850發明第三○五九五五號2009/02/01
    13光阻液噴嘴的清洗治具97216997新型 M 354844號2009/04/11
    14複合晶圓壓合裝置98200379新型 M 359788號2009/06/21
    15發光二極體列印條及其應用96103081發明第 I 3282942010/08/01
    16厚金屬膜的剝離方法97134591發明第 I 367523號2012/07/01
    17聚光型太陽能電池晶圓承載結構及其承載裝置101205208新型第 M 435043號2012/08/01
    18光阻塗佈方法及其應用97139768發明第 I 371826號2012/09/01
    19利用電子槍蒸鍍厚銀層的蒸鍍裝置101110807發明第 I 439559號2014/06/01
    20利用離子槍提升抗反射層折射率的蒸鍍方法101110846發明第 I 439561號2014/06/01
    21太陽能電池及其製造方法100149516發明第 I 455332號2014/10/01
    22應用於聚光型太陽能電池之蝕刻設備之晶圓傳輸裝置101115722發明第 I 456685號2014/10/11
    23聚光型太陽能電池101114360發明第 I 464886號2014/12/11
    24砷化鎵聚光型太陽能電池101114361發明第 I 473278號2015/02/11
    25光伏元件晶圓上去除厚金屬之方法及其設備100149520發明第 I 473911號2015/02/21
    26聚光型太陽能電池電漿蝕刻方法及設備101110825發明第 I 476831號2015/03/11
    27晶圓傳送裝置101103893發明第 I 496236號2015/08/11
    28應用於聚光型太陽能電池之蝕刻設備之晶圓傳輸手臂101115721發明第 I 476833號2015/08/21
    29異質接面雙載子電晶體108200531新型第 M 577179號2019/04/21
    29.1異質接面雙極性電晶體 ZL 2019 2 0809627.X2019/12/13
    29.2異質接面雙極性電晶體16/557079US 11,211,480 B22020/07/16
    30面射型雷射的製造方法108118662發明第 I 685162號2020/02/11
    31用於積體電路元件的電感器108216204新型第 M 591693號2020/03/01
    32具有高散熱異質接面雙載子電晶體的半導體元件109202306新型第 M 596973號2020/06/11
    33底面出光型垂直腔表面發射激光元件108216123新型第 M 597003號2020/06/11
    34集成電晶體元件109213660新型第 M 600478號2020/08/21
    35電容結構及具有電容結構的半導體裝置109213660新型第 M 606291號2021/01/01
    36複合式電感109214014新型第 M 609825號2021/04/01
    37高導熱性場效電晶體元件109216949新型第 M 610056號2021/04/01
    38垂直共振腔面射型雷射二極體晶粒陣列的切割方法110127538發明第 I 784639號2022/11/21
    39出口噴嘴阻塞的監控方法110128049發明第 I 788932號2023/01/01
    40背面出光之面射型雷射裝置的製作方法與結構110127722發明第 I 769899號2022/07/01
    41電子槍裝置110207885新型第 M 618684號2021/10/21
    42晶圓分離裝置110208577新型第 M 618739號2021/10/21
    43鍍膜防刮承載裝置110209530新型第 M 621091號2021/12/11
    45指叉型變容二極體111201146新型第 M 628651號2022/06/21
    46晶背曝光機111200590新型第 M 627427號2022/05/21
    47晶圓移載裝置(預防破片)111202371新型第 M 628357號2022/06/11
    48晶圓擺放狀態感測設備111205392新型第 M 630546號2022/08/01
    49晶圓片夾持裝置111204094新型第 M 630430號2022/08/01
    50光學檢測裝置111207491新型第 M 633796號2023/03/01
    51電鍍治具(有效降低晶圓表面刮傷、穿刺傷)111212076新型第 M 638338號2022/11/02

			

					Language 繁體中文 English
	About AWSC Company Profile Milestone Environment Policy Technology Information Product Summary InGaP HBT Switch pHEMT IPD Cu Pillar Bump 0.5um ED pHEMT 0.25um ED pHEMT 0.15um E-pHEMT 0.25um ED BiHEMT VCSEL Quality Policy Quality Policy Quality Concept Quality Management System Reliability Human Resource Resource Analysis Compensation&Benefits Training&Development Investor Relations Monthly Revenue Financial Reports Shareholder Services Contact Us CSR CSR Policy CSR Management RBA Commitment Anti-discrimination Service Line ESG Sustainability Report

No.	專利名稱	申請案號	專利權證號	取得日期
1	砷化鎵異質接面雙極性電晶體之單晶片高密度佈局	91100413	發明第二四四七六二號	2001/05/28
2	異質接面雙極性電晶體之量產製程	90114484	發明第一六七四六八號	2002/10/21
3	金屬剝除之量產製程	91101848	發明第一七○九○六號	2003/01/01
4	晶片電鍍治具改良	91209485	發明第二○二○六三號	2003/03/01
5	金屬擴散之量產製程	90130974	發明第一七五五八七號	2003/03/11
6	用於蝕刻晶圓上的金之裝置	91218515	發明第二○七九四八號	2003/07/11
7	用於薄晶圓之去除殘蠟新製程及裝置(Demount後殘蠟去除/減低之新製程)	91118838	發明第一八四九○六號	2003/08/01
8	低濃度矽甲烷形成氮化矽之量產製程	91101849	發明第一八八七一四號	2003/09/21
9	去除晶圓邊緣多餘光阻之曝光方法	92100554	發明第一九三九四四號	2003/11/21
10	異質接面雙極性電晶體製程改善的方法	91113808	發明第二二四三六四號	2004/11/21
11	砷化鎵異質接面雙極性電晶體之形成方法及其單晶片高密度佈局	88116656	發明第一三七五二八號	2005/12/01
12	氮化鉭電阻之量產製程	91101850	發明第三○五九五五號	2009/02/01
13	光阻液噴嘴的清洗治具	97216997	新型 M 354844號	2009/04/11
14	複合晶圓壓合裝置	98200379	新型 M 359788號	2009/06/21
15	發光二極體列印條及其應用	96103081	發明第 I 328294	2010/08/01
16	厚金屬膜的剝離方法	97134591	發明第 I 367523號	2012/07/01
17	聚光型太陽能電池晶圓承載結構及其承載裝置	101205208	新型第 M 435043號	2012/08/01
18	光阻塗佈方法及其應用	97139768	發明第 I 371826號	2012/09/01
19	利用電子槍蒸鍍厚銀層的蒸鍍裝置	101110807	發明第 I 439559號	2014/06/01
20	利用離子槍提升抗反射層折射率的蒸鍍方法	101110846	發明第 I 439561號	2014/06/01
21	太陽能電池及其製造方法	100149516	發明第 I 455332號	2014/10/01
22	應用於聚光型太陽能電池之蝕刻設備之晶圓傳輸裝置	101115722	發明第 I 456685號	2014/10/11
23	聚光型太陽能電池	101114360	發明第 I 464886號	2014/12/11
24	砷化鎵聚光型太陽能電池	101114361	發明第 I 473278號	2015/02/11
25	光伏元件晶圓上去除厚金屬之方法及其設備	100149520	發明第 I 473911號	2015/02/21
26	聚光型太陽能電池電漿蝕刻方法及設備	101110825	發明第 I 476831號	2015/03/11
27	晶圓傳送裝置	101103893	發明第 I 496236號	2015/08/11
28	應用於聚光型太陽能電池之蝕刻設備之晶圓傳輸手臂	101115721	發明第 I 476833號	2015/08/21
29	異質接面雙載子電晶體	108200531	新型第 M 577179號	2019/04/21
29.1	異質接面雙極性電晶體		ZL 2019 2 0809627.X	2019/12/13
29.2	異質接面雙極性電晶體	16/557079	US 11,211,480 B2	2020/07/16
30	面射型雷射的製造方法	108118662	發明第 I 685162號	2020/02/11
31	用於積體電路元件的電感器	108216204	新型第 M 591693號	2020/03/01
32	具有高散熱異質接面雙載子電晶體的半導體元件	109202306	新型第 M 596973號	2020/06/11
33	底面出光型垂直腔表面發射激光元件	108216123	新型第 M 597003號	2020/06/11
34	集成電晶體元件	109213660	新型第 M 600478號	2020/08/21
35	電容結構及具有電容結構的半導體裝置	109213660	新型第 M 606291號	2021/01/01
36	複合式電感	109214014	新型第 M 609825號	2021/04/01
37	高導熱性場效電晶體元件	109216949	新型第 M 610056號	2021/04/01
38	垂直共振腔面射型雷射二極體晶粒陣列的切割方法	110127538	發明第 I 784639號	2022/11/21
39	出口噴嘴阻塞的監控方法	110128049	發明第 I 788932號	2023/01/01
40	背面出光之面射型雷射裝置的製作方法與結構	110127722	發明第 I 769899號	2022/07/01
41	電子槍裝置	110207885	新型第 M 618684號	2021/10/21
42	晶圓分離裝置	110208577	新型第 M 618739號	2021/10/21
43	鍍膜防刮承載裝置	110209530	新型第 M 621091號	2021/12/11
45	指叉型變容二極體	111201146	新型第 M 628651號	2022/06/21
46	晶背曝光機	111200590	新型第 M 627427號	2022/05/21
47	晶圓移載裝置(預防破片)	111202371	新型第 M 628357號	2022/06/11
48	晶圓擺放狀態感測設備	111205392	新型第 M 630546號	2022/08/01
49	晶圓片夾持裝置	111204094	新型第 M 630430號	2022/08/01
50	光學檢測裝置	111207491	新型第 M 633796號	2023/03/01
51	電鍍治具(有效降低晶圓表面刮傷、穿刺傷)	111212076	新型第 M 638338號	2022/11/02